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磁控濺射鍍膜超窄帶濾光片
更新時(shí)間:2020-04-16
濺射鍍膜是在真空條件下,利用荷能粒子轟擊靶表面,使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術(shù)。濺射鍍膜具有膜層和基體的附著(zhù)力強,膜層均勻性好等優(yōu)點(diǎn),適合各種金屬、氧化物、半導體薄膜的制備,廣泛應用于光伏、LED、微電子、硬質(zhì)薄膜等領(lǐng)域。$n656nm磁控濺射鍍膜超窄帶濾光片
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