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光學(xué)窗口片拋光時(shí)間過(guò)長(cháng)會(huì )出現的現象
點(diǎn)擊次數:3482 更新時(shí)間:2019-12-16
光學(xué)窗口片研磨拋光階段的工藝流程為:粗磨(一致化)-精磨(平坦化)-拋光(鏡面化)。其中,粗磨和精磨階段都是采取磨料沖擊破碎藍寶石表面的方式進(jìn)行,為純物理作用,拋光一般采用堿性二氧化硅溶膠,一邊對藍寶石表面進(jìn)行輕微腐蝕,一邊通過(guò)拋光墊掃除的方式達到鏡面效果,為CMP拋光,即化學(xué)物理拋光法。
由以上流程可知,藍寶石拋光是一個(gè)腐蝕—掃除的過(guò)程,其中,腐蝕的厚度僅僅達到埃米級。藍寶石拋光完結應該是鏡片的所有部分都達到鏡面效果。
在日常加工中,經(jīng)常碰到光學(xué)窗口片拋光過(guò)長(cháng)的現象,時(shí)間太長(cháng)的會(huì )出現以下現象:
1.長(cháng)方形特別是長(cháng)條形的四個(gè)角拋不透;
2.表面有坑點(diǎn);
3.橘皮水紋等缺陷;
4.表面發(fā)蒙,霧化。
以上現象,除第三點(diǎn)外,基本都由研磨所產(chǎn)生。
光學(xué)窗口片的拋光是逐漸腐蝕的過(guò)程,而腐蝕的深度非常細微,藍寶石拋光時(shí)間長(cháng),無(wú)非就是腐蝕還沒(méi)達致全局,要想達致全局,只能延長(cháng)拋光時(shí)間。
若光學(xué)窗口片表面出現坑點(diǎn),該如何處理?
表面坑點(diǎn)有兩種基本現象,一是個(gè)別坑點(diǎn)且全盤(pán)幾乎每片都有;二是單片上密布坑點(diǎn)。頭一種現象產(chǎn)生的原因是研磨砂個(gè)別大顆粒擠壓產(chǎn)生的坑點(diǎn),采取的方式是卸壓,即將上盤(pán)的壓力降低,甚至可以利用反壓,同時(shí)注意分析是否有碎屑、鐵屑或其他大號砂通過(guò)環(huán)境傳輸混入,若有此現象,必須清洗機器并過(guò)濾砂液,一般來(lái)講,混入少量的大顆粒研磨砂,通過(guò)研磨一定的時(shí)間后會(huì )消除。
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